第2届光掩模与光刻胶产业论坛

论坛时间：2025年5月28日

主办方：亚化咨询

日程安排

5月27日17:00~20:00会议注册

5月28日08:30~12:30演讲报告

12:30~14:00自助午餐与交流

14:00~18:15演讲报告

18:25~20:00招待晚宴

会议背景近年来，中国对高端光掩模的需求快速增长，但技术研发、生产能力及产业整合方面仍面临诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2022年间从40.4亿美元增长至49亿美元，年复合增长率达4.9%。预计到2025年，该市场规模将进一步扩大至约55亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方掩模版市场规模占比为70%左右:预计2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元。

全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企业主导，市场占有率超过80%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、冠石科技、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替代方面取得初步突破。

2023年我国半导体制造用光刻胶市场规模为39.6亿元，而国内企业半导体制造用光刻胶销售收入仅为10.1亿元。预计2024年光刻胶销售收入达到13.1亿元。

在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程，并取得了核心突破。国内一些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材等，在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研，国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年成立)等。

“第2届光掩模与光刻胶产业论坛”将于5月28日召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚光掩模及光刻胶行业的领军企业、机构的技术和市场专家，探讨中国光掩模版产业的技术进展、市场机遇与挑战，以及产业前景展望。

会议主题

5月27日/商务考察

15:00-16:00上海集成电路科技馆

16:00-17:00上海超级计算中心

5月28日/会议日程

高端光掩模版的国产化:挑战、技术突破项目投资

江苏路芯半导体技术有限公司

冠石科技光掩模项目进展与半导体掩膜产业展望

宁波冠石半导体有限公司

纳米光刻技术前沿

中科院苏州纳米所

导向自组光刻技术

复旦大学

高分辨光刻胶的研发和产业化

国科大/国科天骥公司(待定)

光刻胶在EUV技术中的应用与发展趋势

上海同步辐射光源

纳米压印光刻胶

徐州博康信息化学品有限公司

标题待定

卫利国际科贸(上海)有限公司

标题待定

济南圣泉集团股份有限公司

用于半导体光刻、量测及掩膜的国产化高端石英材料的开发与应用进展介绍

长飞石英技术(武汉)有限公司

中国光刻胶产业链的整合与自主创新能力提升上海新阳(待定)

光刻胶国产化替代探讨

湖北鼎龙控股股份有限公司(待定)

*以上演讲报告列表将随着会议邀请工作进展不断更新，最终版以会场发布为准。